SOIウェーハ

SOI基板とは,Si基板と表面Si層の間にSiO2を挿入した構造の基板であります。トランジスタの寄生容量を減らせるので,動作速度向上と消費電力削減に効果があります。
従来の集積回路上では、素子間分離をPN接合の逆バイアスによって形成しますが、寄生ダイオードやサブストレートとの間に浮遊容量が生じ、信号の遅延やサブストレートへのリーク電流が発生していました。この浮遊容量を低減するため、MOSFETのチャネルの下に絶縁膜を形成し、浮遊容量を減らしたものがSOIです。また、このような絶縁膜を内包したウェーハをSOIウェーハと呼び、従来のウェーハはSOIウェーハと区別するためにバルクシリコン(バルクウェーハ)と呼ばれる場合があります。

ICEMOS TECHNOLOGY社について

  • 弊社は英国ICEMOS TECHNOLOGY社の日本総代理店としてSOIウェーハ、Si-Siボンディングウェーハ、 SOI加工ウェーハ(誘電体分離ウェーハ等)他のサービスをご提供させて頂いております。
  • ICEMOS TECHNOLOGY社は旧BCOテクノロジー社以来ワールドクラスのカスタムSOIソリューションを10年以上提供してきました。
  • R&Dのための少量試作から量産までご対応させて頂いております。

張り合わせSOIウェーハの種類

貼り合せウェーハには以下の種類があります

SOIウェーハ作成プロセスについて

作成方法1

ハンドル層側にBox層を形成し、貼り合せデバイス層を研磨し作成。

作成方法2

デバイス層側にBox層を形成し、貼り合せデバイス層を研磨し作成。

SOIウェーハのカスタマイズについて

SOIウェーハのスペックはご希望に応じご提案させて頂きます。 以下のようなスペックが可能ですので、お気軽にご相談下さい。

デバイス層
厚み:最薄1.5μmまでの厚みが作成可能。
Box層(熱酸化膜)
  • 厚み4μmまでダイレクトにBox層酸化膜付け加工が可能。
  • 4μm以上の酸化膜についても作成可能。

例:5μm(1μm+4μm)酸化膜どうし貼り合せ。

4μm以上の酸化膜について

例えば5 μm(1μm+4μm)酸化膜どうし貼り合せでBox層を作成可能ですが酸化膜どうしの貼り合せ(SiO2+SiO2)は、シリコンと酸化膜の貼り合せ(Si+SiO2)より、貼り合せ強度は強くはありせん。

ハンドル層

厚み300μm以下のハンドル層をご希望の場合は別途E&Mで研磨可能。
例:ハンドル層325μm→150μmに研磨※

※SOIウェーハのトータル厚みで測定。公差±2μm狙いの加工可能。

ハンドル層の裏面研磨について

ハンドル層の裏面研磨が可能です。厚みについてはSOIウェーハのトータル厚みでの測定になります。

※ご希望に応じデバイス層も研磨可能。

フィールド酸化膜等の膜付け加工
  • SOIウェーハの表面にフィールド酸化膜付け加工が可能。
  • その他、窒化膜、メタル膜も成膜可能。
貼り合せ強度

デバイス層とBox層の貼り合せ強度の弱いSOIウェーハも作成可能。

※通常の貼り合せ強度では、48%HFの中で70分エッチングでも貼り合せ界面へ影響はない

実績有り(過去テストデータに基く)

貼り合せ強度の弱いSOIウェーハ

貼り合せ界面の接合強度の弱いSOIウェーハを特別に作成可能。

ICEMOS TECHNOLOGY社の
スタンダードスペック

サイズ4インチ、5インチ、6インチ、8インチ

http://www.icemostech.com/soi-wafers.html

SOIウェーハ加工品製品概要

キャピティーパターン加工ウェーハ

Box層、ハンドル層などへのキャビティー加工が可能。

パターン加工SOIウェーハ

各種パターン加工可能。下記のような各種パターン加工が作成可能です。

誘電体分離ウェーハ製品概要

SOIウェーハトレンチ+リフィル加工

SOIウェーハへのトレンチ加工とポリシリコンリフィル加工により誘電体分離ウェーハの作成が可能になります。
詳細スペック等はこちらをご参照下さい。

Si-Siボンディングウェーハ

シリコンウェーハどうし(高抵抗のシリコンウェーハと低抵抗のシリコンウェーハ等)を直接貼り合せることで、エピタキシャルウェーハの代わりとなりうるウェーハ作成が可能です。 特徴としては、ウェーハを直接貼り合せているため、ウェーハの接着界面のオートドーピングが起きにくく、厚みによっては厚いエピ層を積むよりもコスト削減につながります。作成方法は2つのシリコンウェーハを貼り合せデバイス層をターゲットの厚みまで研磨。Si-Siボンディングウェーハ(Si-Si貼り合わせウェーハ)は、これまでパワー・デバイスやピン・ダイオードなどのアプリケーションに使われてきた厚エピタキシャル層などと比較すると、低価格な代替品として有用とされています。

SOI在庫販売について

ICEMOS TECHNOLOGY社の海外在庫品もございますのでお問い合わせ下さい。スペックは都度お問い合わせください。最新の在庫リストをお送りいたします。